Fotolackverarbeitung
mit μLAB und μCHEM

Die Fotolackverarbeitung ist ein prozesskritischer Bestandteil der Halbleiterfertigung und maßgeblich für die präzise Definition mikro- und nanostrukturierter Wafer. Mit steigenden Anforderungen an Strukturauflösung, Prozessfenster und Reproduzierbarkeit rücken stabile, exakt kontrollierte nasschemische Prozessschritte zunehmend in den Fokus.

Die Systeme μCHEM und μLAB sind für die präzise, reproduzierbare Verarbeitung von Fotolacken entlang der gesamten nasschemischen Prozesskette ausgelegt. Sie unterstützen Beschichten, Entwickeln, Ätzen und Reinigen von Fotolackschichten unter kontrollierten Bedingungen und lassen sich flexibel an unterschiedliche Prozessanforderungen in Entwicklung und Produktion anpassen.

Typische Anwendungen umfassen nasschemische Fotolackprozesse in der Halbleiterfertigung, die Strukturierung von Wafern für MEMS- und Sensorsysteme sowie Entwicklungs- und Qualifizierungsprozesse neuer Fotolacke. Darüber hinaus ermöglichen die Systeme die Umsetzung kundenspezifischer Prozessflows mit definierten und stabilen Prozessfenstern.