µGALV-P
Hochpräzise Panel-Beschichtung

Die μGALV-P ist eine hochmoderne Anlage für die elektrochemische Oberflächenbeschichtung und wurde speziell für Anwendungen in den Bereichen MEMS, Halbleiter, Optik und Solartechnik entwickelt. Dank ihres flexiblen Anlagenkonzepts und der anpassbaren Prozessführung eignet sie sich sowohl für industrielle Produktionsumgebungen als auch für Forschungs- und Entwicklungsanwendungen.

Das System unterstützt Panelgrößen bis Gen 5.1 und ermöglicht eine präzise sowie reproduzierbare Beschichtung unter stabilen Prozessbedingungen. Gleichzeitig lassen sich Prozesse gezielt beschleunigen und flexibel an unterschiedliche Produktionsanforderungen anpassen.

In unserem modernen Applikationslabor in Deutschland analysieren und optimieren wir Beschichtungsprozesse, testen unterschiedliche Anlagenkonfigurationen und unterstützen Sie bei der Auswahl geeigneter Chemikalien und Prozessparameter.

So entsteht eine Lösung, die sich nahtlos in Ihre Produktions- und Entwicklungsumgebung integriert und stabile, reproduzierbare Ergebnisse gewährleistet.