Spin Rinse Dryer μSRD
Für höchste Ansprüche in der Waferreinigung

Der Spin Rinse Dryer μSRD steht für präzise Waferreinigung und zuverlässige Trocknung in Batch-Prozessen. Sein benutzerfreundliches Design ermöglicht einen einfachen und effizienten Betrieb. Nach dem Beladen einer einzelnen Waferkassette in den Edelstahlrotor übernimmt das System den gesamten Reinigungs- und Trocknungsprozess automatisch.

Gefertigt aus chemisch beständigem Polypropylen oder Edelstahl bietet der μSRD eine hohe Widerstandsfähigkeit gegenüber Säuren und Basen und ist auf einen langlebigen, stabilen Betrieb ausgelegt.

Die integrierte Software wird über ein intuitives Touch-Panel gesteuert und bietet mehr als zehn Programme für unterschiedliche Wafertypen und Prozessanforderungen. Vordefinierte Prozessparameter ermöglichen einen schnellen und sicheren Produktionsstart sowie eine flexible Anpassung an individuelle Anwendungen.

Der μSRD sorgt für stabile und reproduzierbare Prozesse bei gleichzeitig hohen Reinheits- und Partikelstandards. Durch den effizienten Einsatz von Medien und Energie lassen sich Betriebskosten reduzieren, während die intuitive Bedienung und der geringe Wartungsaufwand eine hohe Anlagenverfügbarkeit unterstützen.

So verbindet der Spin Rinse Dryer μSRD moderne Prozesskontrolle mit hoher Benutzerfreundlichkeit und schafft zuverlässige Voraussetzungen für Anwendungen in Forschung und Produktion.