Spin Rinse Dryer μSRD
Pour les exigences les plus élevées en matière de nettoyage de wafers

Le Spin Rinse Dryer μSRD est synonyme de nettoyage précis des wafers et de séchage fiable dans des procédés batch. Sa conception intuitive permet une utilisation simple et efficace. Après le chargement d’une cassette de wafers unique dans le rotor en acier inoxydable, le système prend en charge automatiquement l’ensemble du processus de nettoyage et de séchage.

Fabriqué en polypropylène résistant aux produits chimiques ou en acier inoxydable, le μSRD offre une grande résistance aux acides et aux bases et est conçu pour un fonctionnement durable et stable.

Le logiciel intégré est piloté via un panneau tactile intuitif et propose plus de dix programmes pour différents types de wafers et exigences de procédé. Des paramètres de procédé prédéfinis permettent un démarrage de production rapide et sûr, ainsi qu’une adaptation flexible aux applications spécifiques.

Le μSRD garantit des procédés stables et reproductibles tout en répondant à des standards élevés de propreté et de particules. Grâce à une utilisation efficace des fluides et de l’énergie, les coûts d’exploitation peuvent être réduits, tandis que la commande intuitive et les faibles besoins en maintenance favorisent une disponibilité accrue de l’installation.

Ainsi, le Spin Rinse Dryer μSRD associe un contrôle de procédé moderne à une grande facilité d’usage et crée les conditions fiables requises pour des applications en recherche et en production.