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μPORSI
Électropolissage du silicone

Notre système μPORSI offre une solution complète pour la fabrication et l’électropolissage du silicone poreux. Ce système avancé est parfaitement adapté aux applications exigeantes dans les industries des LED, du photovoltaïque et des semi-conducteurs.

L’installation couvre l’ensemble du processus de production, séchage inclus, et est spécifiquement conçue pour répondre aux exigences de la fabrication de silicone poreux. Sur demande, nous proposons également un accompagnement lors de la mise en service et de l’intégration des processus sur site.

Les exigences de processus variant selon l’application, le système μPORSI présente une structure modulaire et flexible. Il peut ainsi être adapté avec précision aux environnements de production existants et aux paramètres de processus individuels. Le système convient aussi bien aux projets de recherche et développement qu’à la production industrielle en série, offrant une base évolutive pour les applications les plus diverses.

Fiche technique
Unité de silicone poreux μPORSI

Tailles de wafers : Jusqu’à 300 mm
Applications : MEMS, CMOS, capteurs, photovoltaïque, R&D ou production

Modules de gravure

  • Circulation en circuit fermé
  • Sélection de cellules de processus sur mesure
  • Contrôlé par API

 

Module de rinçage

  • Standard : rinçage par débordement
  • En option : Quick Dump Rinse (QDR), pentane, IPA

 

Construction

  • Matériau : polypropylène blanc
  • Tuyauterie : PP, PVDF ou PFA en option avec raccords PFA Flaretek®
  • Panneau de commande : Écran tactile

 

Éléments de commande

  • Tous les éléments de commande du processus sont intégrés en façade.
  • Les composants électriques et pneumatiques se trouvent dans un compartiment séparé dans la zone de service arrière.
  • Les pistolets de pulvérisation d’eau désionisée (DIW) et d’azote (N2) sont intégrés à la surface de travail.

 

Options générales

  • Manipulation automatisée (compatible avec les robots)
  • Porte coulissante frontale : matériau PVC transparent
  • Fabrication de silicium poreux assistée par la lumière
  • Traitement de wafers sans ions métalliques possible
  • Gestion interne des produits chimiques
  • Intégration de cellules de pré/post-traitement, unités à flux laminaire
  • Conception sous forme de hotte aspirante
  • Matériaux certifiés FM 4910

 

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