WOLL.SEMICON
Précision en chimie humide

WOLL.Semicon est la marque semi-conducteurs de M-O-T Mikro- und Oberflächentechnik GmbH au sein de WOLL.Group. Nous développons des installations de procédés humides sur mesure pour la recherche, le développement et la production en série. Sur le site de Sarrebruck, nous concevons et fabriquons des systèmes modulaires et technologiquement exigeants, qui s’intègrent parfaitement aux environnements de fabrication Front-End-of-Line (FEOL) comme Back-End-of-Line (BEOL) existants.

Nos installations maîtrisent des procédés de chimie humide complexes tels que la gravure, le nettoyage, la galvanoplastie et le traitement des résines photosensibles. Elles répondent aux exigences élevées des applications modernes en photonique, énergie, 5G, microLED, capteurs et MEMS. Des systèmes de wet bench à très haute pureté, un contrôle précis des procédés et des composants durables garantissent des procédés stables, une efficacité élevée et de faibles coûts d’exploitation.

Nous proposons des systèmes de procédés humides manuels, semi-automatiques et entièrement automatiques, ainsi que des stations chimiques sur mesure offrant une large compatibilité matériaux. Sont notamment traités le silicium (Si), le carbure de silicium (SiC), le nitrure de gallium (GaN), l’arséniure de gallium (GaAs) et le phosphure d’indium (InP), pour des tailles de wafers jusqu’à 300 mm. En complément, nos plateformes permettent le dépôt galvanique de matériaux tels que l’or, l’argent, le cuivre, le nickel et d’autres alliages.

Notre exigence : des solutions de chimie humide sur mesure, offrant la plus haute qualité de procédé et rendant votre production de semi-conducteurs sensiblement plus performante.