Technologie de gravure innovante
pour des processus de wafer précis

Les processus de gravure constituent un élément central de la fabrication de semi-conducteurs et sont déterminants pour la définition précise de structures complexes sur les surfaces de wafer. Les exigences en matière de fidélité structurelle, de reproductibilité et de stabilité des processus nécessitent des systèmes de gravure performants avec des paramètres de processus contrôlés avec précision.

Nous développons des solutions de gravure sur mesure pour des applications exigeantes en développement et en production. Les systèmes sont conçus pour l’utilisation de produits chimiques de gravure de haute pureté ainsi qu’une conduite de processus précise et stable, et garantissent une grande cohérence – aussi bien dans la fabrication en grande série que dans les processus spécialisés et spécifiques aux applications.

Le portefeuille comprend des installations de gravure automatisées et des concepts de systèmes modulaires qui s’intègrent parfaitement dans les environnements de fabrication existants. Les applications typiques vont des processus de gravure personnalisés avec des fenêtres de processus étroites à la structuration de wafers dans la fabrication de semi-conducteurs, en passant par les processus de gravure pour systèmes MEMS et capteurs ainsi que les gravures de précision pour composants micro- et nanostructurés.