Traitement de photorésine
avec μLAB und μCHEM

Le traitement des résines photosensibles constitue une étape critique de la fabrication des semi-conducteurs et joue un rôle essentiel dans la définition précise des micro- et nanostructures sur les wafers. Face aux exigences croissantes en matière de résolution des structures, de maîtrise de la fenêtre de procédé et de reproductibilité, les procédés de traitement chimique humide, stables et précisément contrôlés, deviennent de plus en plus déterminants.

Les systèmes μCHEM et μLAB sont conçus pour le traitement précis et reproductible des photorésines tout au long de la chaîne de processus par voie humide. Ils prennent en charge le dépôt, le développement, la gravure et le nettoyage des couches de photorésine dans des conditions contrôlées et peuvent être adaptés de manière flexible aux différentes exigences de processus en développement et en production.

Les applications typiques incluent les processus de photorésine par voie humide dans la fabrication de semi-conducteurs, la structuration de wafers pour les systèmes MEMS et de capteurs, ainsi que les processus de développement et de qualification de nouvelles photorésines. De plus, les systèmes permettent la mise en œuvre de flux de processus personnalisés avec des fenêtres de processus définies et stables.