μCHEM et μLAB
Traitement des photorésines

Le traitement des photorésines est une étape essentielle dans la fabrication de semi-conducteurs, permettant la création de structures complexes sur des substrats. Le processus comprend le revêtement, l’exposition, le développement, la gravure et le nettoyage des couches de photorésine afin de produire des structures précises sur les wafers. Avec les exigences croissantes en matière de structure, une qualité et une efficacité constamment élevées dans le traitement des photorésines prennent de plus en plus d’importance.

Avec les systèmes μCHEM et μLAB, nous proposons des solutions performantes pour toutes les étapes de processus par voie humide du traitement des photorésines. Les systèmes sont conçus pour une précision maximale, une fiabilité de processus et une flexibilité optimales, et prennent en charge aussi bien les processus de développement et de qualification que la production industrielle en série.

Grâce à leur conception modulaire, les systèmes peuvent être adaptés à différentes exigences en recherche, en production pilote et en production. Cela crée une plateforme fiable et évolutive pour les processus modernes de photorésines avec une reproductibilité élevée et une qualité de processus stable.