Innovative Ätztechnologie
für präzise Waferprozesse

Ätzprozesse sind ein zentraler Bestandteil der Halbleiterfertigung und entscheidend für die präzise Definition komplexer Strukturen auf Waferoberflächen. Die Anforderungen an Strukturtreue, Reproduzierbarkeit und Prozessstabilität erfordern leistungsfähige Ätzsysteme mit exakt kontrollierten Prozessparametern.

Wir entwickeln maßgeschneiderte Ätzlösungen für anspruchsvolle Anwendungen in Entwicklung und Produktion. Die Systeme sind auf den Einsatz hochreiner Ätzchemikalien sowie eine präzise und stabile Prozessführung ausgelegt und gewährleisten eine hohe Konsistenz – sowohl in der Großserienfertigung als auch bei spezialisierten, anwendungsspezifischen Prozessen.

Das Portfolio umfasst automatisierte Ätzanlagen und modulare Systemkonzepte, die sich nahtlos in bestehende Fertigungsumgebungen integrieren lassen. Typische Anwendungen reichen von kundenspezifischen Ätzprozessen mit engen Prozessfenstern über die Strukturierung von Halbleiterwafern bis hin zu Ätzprozessen für MEMS- und Sensorsysteme sowie Präzisionsätzungen für mikro- und nanostrukturierte Bauteile.